[비욘드포스트 이지율 기자] 정부가 일본의 반도체·디스플레이 소재 수출 규제에 맞서 수입선 다변화와 국산화 등을 적극 추진하기로 했지만 현실적으로 소재 국산화는 쉽지않은 상황이다.
3일 관련업계에 따르면, 산업부는 지난 1일 열린 '반도체·디스플레이 긴급 현안 점검회의'에서 일본의 예상 가능한 조치에 대해 수입선 다변화, 국내 생사설비 확충, 기술개발을 통한 국산화 등을 적극 추진해왔다며 곧
소재부품장비 경쟁력 강화 대책'도 곧 발표해 적극 추진하기로 했다고 밝혔다.
일본 정부는 오는 4일부터 TV·스마트폰의 OLED 디스플레이에 쓰이는 플루오린 폴리이미드, 반도체 공정용 레지스트와 에칭가스(고순도 불화수소. 불산) 등 총 3개 품목에 대한 한국 수출을 절차를 강화할 예정이다.
올들어 5월까지 해당 소재의 일본 수출 의존도는 반도체 제조에 사용되는 레지스트와 에칭가스(불산)가 각각 91.9%, 43.9%였고, OLED 디스플레이용 소재인 플루오린(불화) 폴리이미드는 93.7%였다.
3가지 소재 모두 일본 기술력 우위에 있는 것은 분명하지만, 이번 재제가 중장기적으로 지속되며 규제 대상이 되는 소재들이 확대되면, 국내 메모리 업체의 생산에 직접적인 영향도 있겠지만, 국내 소재업체들 국산화 가속화로 인한 긍정적 효과가 있을 것이란 분석이다.
에칭가스는 이미 국내에 솔브레인·스텔라 같은 합작법인(JV)의 국내 생산라인이 있어, 증설 통해 대응 가능하다.
불화폴리이미드의 경우도 PI 기판까지 의미한다면 SKC코오롱PI, 투명 폴리이미드 필름으로 한정한다면 코오롱인더스트리, SKC 등 국내 경쟁사가 있다.
다만 감광액으로 불리는 포토레지스트의 경우 종류가 다양해 어떤 아이템 인지에 대한 추가 정보에 따른 영향 차별적이다.
D램 반도체 공정에 주로 사용하는 'KrF(불화크립톤) 레지스트'는 동진쎄미켐 등 국내 업체에서도 생산하고 있지만 3D 낸드플래시에 주로 사용하는 'ArF(불화아르곤) 레지스트'는 시네츠, TOK, JSR 등 일본 업체로부터 전량 수입한다는 점이다.
특히 삼성전자의 7nm 비메모리 반도체를 생산하는 EUV(극자외선) 노광장비에는 ArF 레지스트가 사용되는 것으로 알려졌다. 이 때문에 일각에선 세계 최초로 EUV 공정을 적용해 7나노 제품을 양산한 삼성전자를 정면으로 겨냥한 것 아니냐는 분석도 나온다.
유환익 한국경제연구원 혁신성장실장은 "현실적으로 소재 국산화는 어렵다. 우리나라 반도체 수준이 상당히 높은데 그 수준에 맞출 부품이 순식간에 나오기 어려워, 지난 수십년 간 부품 국산화를 외쳤는데도 안 됐다"면서 "그만큼 중소기업 생태계 자체 경쟁력이 낮은 것으로, 장기적 전략을 가져가되 당장은 한일 간 관계를 풀어야 한다"고 말했다.
